北京時間02月12日消息，中國觸摸屏網訊，讓ASML如此親睞，Mapper公司什么來頭？荷蘭光刻機制造商ASML官方宣布，收購其競爭對手荷蘭代爾夫特的光刻機制造商Mapper的知識產權資產。同時，ASML的官方聲明中還寫到，將為Mapper在研發和產品裝配方面的高技能員工提供合適的職位。ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink表示：“我們非常尊重Mapper的專家，他們表現出極大的創造力和足智多謀。ASML重視他們的專業知識，我們期待著歡迎他們加入我們的組織。”

    本文來自：http://www.zc28898.cn/fixture/news/2019/0212/53066.html

 

　　ASML官方聲明

　　能夠讓光刻機巨頭ASML如此親睞，這個Mapper公司到底是什么來頭?

　　天堂和地獄僅一步之遙

　　作為ASML的競爭對手，Mapper在2018年12月份被證實正式宣布破產，公司擁有270名員工和眾多電子束光刻機相關的IP。

　　Mapper曾經以為自己找到了半導體制造行業的痛點，無奈研發能力跟不上，最終錯過了好時機。和Mapper電子束光刻機對應的就是傳統光刻，將掩模放置在光源和硅片之間，光線通過掩模照射到硅片上，使得掩模上的線條圖形按一定比例縮小轉移到硅片上。這個過程需要循環反復多次，加上晶圓制造需要多層光刻，一顆芯片可能要六十次以上，這樣就造成了掩模的成本非常高昂，進而導致制造一顆新的芯片的成本急劇上升。

　　Mapper為了降低芯片制造商在掩模上的高昂費用，以及讓光刻突破光波長的限制，選擇使用電子束替代光源。電子束具有很高的分辨率、較大的焦深與靈活性。Mapper設備通過使用電子束書寫而不再需要掩模，讓芯片成本有望實現明顯下降。

　　但是，電子束也有自身的缺陷，就是速度比光源光刻要慢很多，Mapper通過大量增加電子束的數量來解決這個難題。光刻機的分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，這就需要極高的工藝來保證幾十萬個電子束能夠精準的控制，研發和制造的難度都極大。

　　2009年，有外媒報道，由于技術上的原因，Mapper原計劃交付給臺積電的300mm光刻設備延期，當時給出的延期時間是一個季度，讓臺積電的制程研發受到了影響。而當時臺積電準備轉入的工藝制程是32nm。隨著工藝不斷精進，以及芯片上電路日益復雜，控制精度和電子束數量增長帶來的難度并不亞于EUV光刻機光源功率的增加，Mapper顯然沒有攻克難題。

　　2011年，當時的代工三巨頭臺積電、英特爾和格羅方德其實更傾向于無掩模光刻技術，認為無掩模技術顯得更適合作為下一代光刻技術使用。但是，由于無掩模技術，包括電子束光刻的研發遇到了困境，三家公司才又將目光移回到EUV光刻，此前由于擔心EUV光刻成本太高以及曝光率等問題三家公司對此并不熱情。

　　所以，16nm成了光源光刻和電子束光刻的分水嶺，ASML從此名震天下，拿到光刻機市場78%的份額，Mapper一蹶不振以至于破產被收購資產。ASML的EUV光刻機是目前市場上最先進的設備，能夠用于晶圓代工廠的7nm制程，其他廠商在這一點上難以望其項背。

　　ASML的“壟斷地位”得到鞏固

　　在2018年底，ASML只是眾多對Mapper收購感興趣的公司之一，如今如愿以償得到Mapper的IP和員工，ASML可謂是如虎添翼。

　　首先，光刻機行業是技術壁壘極高的行業，能夠吸納Mapper的人才，解決了ASML的人才招聘苦惱。Peter Wennink表示：“Mapper員工也將有機會參與我們激動人心且具有挑戰性的下一代芯片制造計劃，即EUV和EUV High-NA。多年來積累的Mapper的知識產權和知識現在將用于荷蘭的進一步創新。”

　　另外，雖然EUV光刻機已經量產出售給客戶，但是EUV光刻機需要250瓦的光源和125WPH的效率，這讓設備的生產受到極大的限制，也讓設備的成本非常的高昂。并且250瓦光源只能支撐到5nm，到了3nm將需要500瓦的光源，這對ASML的研發提出極高的挑戰。

　　因此，收購Mapper的IP無疑給自己的未來增加了更多的可能。

　　ASML有一個規定值得大家注意，那就是只有投資ASML，才能夠獲得優先供貨權。ASML可以借助客戶的投資在EUV光源和電子束光刻上雙管齊下，保證自己在光刻機行業的壟斷地位。
 

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