北京時(shí)間12月26日消息，中國觸摸屏網(wǎng)訊，蘇大維格自主研發(fā)的激光圖形化直寫設(shè)備MiScan成功進(jìn)入歐洲市場。近日，蘇大維格團(tuán)隊(duì)帶著公司自主研發(fā)的激光圖形化直寫設(shè)備MiScan200前往歐洲交付調(diào)試，團(tuán)隊(duì)?wèi){借專業(yè)的技術(shù)能力及嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓ぷ鲬B(tài)度深受客戶好評(píng)。

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本次向歐洲提供的MiScan激光圖形化直寫設(shè)備（8吋）省去了繁瑣的掩膜加工步驟,提供快速,高效和低成本光刻直寫制程的解決方案,尤其對于有光刻Mask外協(xié)需求的用戶來說,可以自制相應(yīng)的Mask降低成本或提升研發(fā)速度需求;本產(chǎn)品采用大功率半導(dǎo)體激光光源,長壽命、低功耗;用戶操作界面友好靈活,支持多種版圖設(shè)計(jì)格式;可根據(jù)自身的加工需求,方便靈活的選用不同的投影倍率和不同調(diào)制方式實(shí)現(xiàn)多種模式圖形制備.通用型MiScan產(chǎn)品（單次曝光0.5um分辨率光刻,支持多次曝光）,支持多重對準(zhǔn)套刻（0.35um-0.5um）套刻精度和翹曲襯底（0-100微米）圖形光刻,尤其適合MEMS器件、功率器件和射頻器件等厚膠套刻。

 

除此之外，面向光電子、柔性電子和新材料領(lǐng)域,蘇大維格提供從4" -70"的紫外微納3D光刻直寫解決方案和高端裝備,包括支持灰度光刻（微納3D形貌）、微納混合光刻（特征結(jié)構(gòu)90nm或更小）和大面積微納圖形直寫（高速光刻）。

 

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